回轉窯脫硝選擇性非催化還原技術（SNCR）就是用NH3、尿素等還原劑噴入窯內與NOX進行選擇性反應，不用催化劑，因此在高溫區加入還原劑，而且還需要一定的停留時間。還原劑噴入窯內合適的溫度區域，該還原劑（尿素）迅速熱分解成NH3并與煙氣中的NOX進行SNCR反應生成N2，該方法是以回轉窯內為反應器。在回轉窯內這一狹窄的溫度范圍內、在無催化劑作用下，NH3或尿素等氨基還原劑可選擇性地還原煙氣中的NOX，基本上不與煙氣中的O2作用，據此發展了SNCR法。在一定溫度范圍內，NH3或尿素還原NOX的主要反應為：NH3為還原劑 4NH3+4NO+O2→4N2+6H2O

SNCR主要由（還原劑也可以采用尿素）氨水儲存模塊、氨水計量加壓輸送模塊、霧化噴射系統模塊及PLC控制系統組成。回轉窯脫硝室內噴槍植入裝置，包括窯體、支撐座、窯體尾部內腔內設有噴槍，噴槍沿窯體的中心軸線處設置。或噴槍噴頭置入回轉窯內，噴槍內充入脫硝還原劑，噴槍噴頭植入到窯體內溫度區間內，脫硝還原劑溶液通過噴槍在壓縮空氣的作用下霧化噴入窯體內進行反應，生成的氮氣和水。

儲罐及還原劑輸送模塊安裝于混凝土圍堰內。

氨水輸送泵（1用1備），通過氨水流量調節閥和回流調節來控制氨水的流量和壓力。

一臺窯一套計量混合模塊，所有儀器儀表集中布置，布置在計量混合模塊柜內。噴射系統所需的氨水混合前由流量計控制，電動調節閥調節以確保分配均勻。還原劑混合液的壓力由壓力檢測監控。計量混合模塊布置在噴射區附近。

在線劑量后的氨水溶液將送到噴射區，各噴槍的還原劑設有閥門控制本噴射點是否投運，噴槍采用插入保護套管內固定方式。噴槍噴射所需的霧化介質采用壓縮空氣。霧化空氣總管上設有壓力控制，分幾路通到各噴槍，并保證霧化風24小時開啟。

PLC控制系統會根據窯尾煙氣NOX的濃度，對氨水的流量進行調節，以達到脫硝效果。